專利規(guī)避設計有重要意義，是知識產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略中擁有專利優(yōu)勢的重要途徑。具體表現(xiàn)在以下方面：

1）專利規(guī)避設計的具體任務并不是規(guī)避知識產(chǎn)權(quán)，而是讓工業(yè)設計者采取其他的解決方案，規(guī)避其他人某專利的某一項專利權(quán)，如采用全新的產(chǎn)品外觀設計等。

2）在專利規(guī)避設計過程中，雖然設計者對發(fā)明或設計進行了不同程度的變形，其實除了非常簡單的模仿存在侵權(quán)，非常簡單的變形設計滿足等同侵權(quán)自然也會落入權(quán)利人專利權(quán)的保護范圍。

在專利侵權(quán)訴訟的分析程序中，最先做的是全覆蓋原則辨別，當侵犯版權(quán)專利包含原專利的全部技術(shù)特點時，構(gòu)成侵權(quán)；當侵犯版權(quán)專利落入等同侵權(quán)范圍內(nèi)，表明專利上存在相同原理或結(jié)構(gòu)的技術(shù)特點，此時就需要對專利進行技術(shù)架構(gòu)截剪，截剪部分技術(shù)特點，從而避免落入全覆蓋原則和等同侵權(quán)的范疇。

3）在研究相關(guān)技術(shù)特征后，通常是進行相關(guān)專利的檢索和分析找出規(guī)避對象，找到了有巨大侵權(quán)風險的高效專利文件，找出最為關(guān)心的競爭者關(guān)鍵技術(shù)專利，對該目標專利文件內(nèi)容專利申請書中的從屬權(quán)利要求進行細化和功能分析。

4）在創(chuàng)建侵權(quán)產(chǎn)品的性能分析后，在此數(shù)據(jù)基礎上，再度分析該專利的功效、結(jié)構(gòu)以及組件和相應的專利權(quán)利，找出侵權(quán)點和設計的創(chuàng)新之處，對相關(guān)某些可能構(gòu)成侵權(quán)的特點進行截剪、優(yōu)化、替換等，進行產(chǎn)品的概念設計。

5)找出截剪后的概念設計中的重要各個領(lǐng)域技術(shù)沖突和各個領(lǐng)域物理矛盾，將它們轉(zhuǎn)化為標準矛盾，根據(jù)矛盾矩陣等工具找到不同的解決方案。

6)應用專利侵權(quán)判定原則對詳盡的概念規(guī)劃方案進行專利侵權(quán)訴訟分析，辨別可否侵權(quán)。要是侵權(quán)，則輸出詳細說明設計方案；一旦侵權(quán)，則仍需功能截剪。

分析以上規(guī)避設計方案。